近年来,受消费电子、新能源及物联网等终端使用的强力牵引,泛半导体工业快速的提高,精细涂布技能使用范畴逐渐扩展,大范围的使用于太阳能、平面显现、半导体等范畴,如钙钛矿涂布、光刻胶涂布等。因为涂布过程中发生的尘土和静电会对涂料和基材外表形成污染,导致涂布产品呈现Mura,ESD,破片,particle不良等问题。涂布机作为泛半导体制程关键设备,其设备功能直接决议了涂布的工艺作用,对产品功能和质量发生较大影响。
晶洲装备结合多年的技能储备及职业使用实践,布局高精细气浮涂布技能,成功自主研制了光刻胶涂布机、钙钛矿涂布机等高精细气浮涂布设备。使用先进的气浮技能,完结无触摸规划,最大极限削减制程过程中的尘土发生确保涂料和基材外表的洁净度,一起提高出产节拍,确保超高的工艺稳定性。
晶洲装备具有完善的开发团队和无尘车间,面向钙钛矿、先进板级封装、面板等范畴展开前瞻性涂布技能讨论研讨。现在已自主研制完结装备上下料机、传送CV、高精度涂布机、恒温恒湿VOC处理机、VCD真空干燥设备、Bake烘烤箱等设备构满足工艺流程设备。
近年来,受消费电子、新能源及物联网等终端使用的强力牵引,泛半导体工业快速的提高,精细涂布技能使用范畴逐渐扩展,大范围的使用于太阳能、平面显现、半导体等范畴,如钙钛矿涂布、光刻胶涂布等。因为涂布过程中发生的尘土和静电会对涂料和基材外表形成污染,导致涂布产品呈现Mura,ESD,破片,particle不良等问题。涂布机作为泛半导体制程关键设备,其设备功能直接决议了涂布的工艺作用,对产品功能和质量发生较大影响。
晶洲装备结合多年的技能储备及职业使用实践,布局高精细气浮涂布技能,成功自主研制了光刻胶涂布机、钙钛矿涂布机等高精细气浮涂布设备。使用先进的气浮技能,完结无触摸规划,最大极限削减制程过程中的尘土发生确保涂料和基材外表的洁净度,一起提高出产节拍,确保超高的工艺稳定性。
晶洲装备具有完善的开发团队和无尘车间,面向钙钛矿、先进板级封装、面板等范畴展开前瞻性涂布技能讨论研讨。现在已自主研制完结装备上下料机、传送CV、高精度涂布机、恒温恒湿VOC处理机、VCD真空干燥设备、Bake烘烤箱等设备构满足工艺流程设备。
...近年来,受消费电子、新能源及物联网等终端使用的强力牵引,泛半导体工业快速的提高,精细涂布技能使用范畴逐渐扩展,大范围的使用于太阳能、平面显现、半导体等范畴,如钙钛矿涂布、光刻胶涂布等。因为涂布过程中发生的尘土和静电会对涂料和基材外表形成污染,导致涂布产品呈现Mura,ESD,破片,particle不良等问题。涂布机作为泛半导体制程关键设备,其设备功能直接决议了涂布的工艺作用,对产品功能和质量发生较大影响。
晶洲装备结合多年的技能储备及职业使用实践,布局高精细气浮涂布技能,成功自主研制了光刻胶涂布机、钙钛矿涂布机等高精细气浮涂布设备。使用先进的气浮技能,完结无触摸规划,最大极限削减制程过程中的尘土发生确保涂料和基材外表的洁净度,一起提高出产节拍,确保超高的工艺稳定性。
晶洲装备具有完善的开发团队和无尘车间,面向钙钛矿、先进板级封装、面板等范畴展开前瞻性涂布技能讨论研讨。现在已自主研制完结装备上下料机、传送CV、高精度涂布机、恒温恒湿VOC处理机、VCD真空干燥设备、Bake烘烤箱等设备构满足工艺流程设备。
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